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臥式化學(xué)氣相沉積爐主要用于以碳氫氣體（如C3H8、CH4等）為碳源的材料表面或基體的CVD/CVI處理
高溫氣相沉積設(shè)備主要用于關(guān)鍵器件表面涂層的制備，而溫度是影響氣相沉積涂層質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)，目前常規(guī)氣相沉積設(shè)備的使用溫度最高只有2000℃，本項目開發(fā)的氣相沉積設(shè)備使用溫度可達到2500℃
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型號 |
功率 |
溫度 |
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Φ300*600 |
100KW |
2500℃ |
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Φ500*1000 |
200KW |
2500℃ |
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Φ800*2000 |
400KW |
2500℃ |
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Φ1500*2500 |
1000KW |
2500℃ |
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